Twój koszyk zakupów

komentarz

Wszystkie zamówienia będą używane USD. Obecnie właściwości w koszyku są wyświetlane w CYN, Użyjesz USD Obliczane według najnowszego kursu walutowego.

Niedostępne

Niektóre produkty nie są już sprzedawane. Twój koszyk został zaktualizowany.

Jest kod rabatowy?
Zastosowany przez Ciebie kod rabatowy zostanie przechowywany na Twoim koncie
Podsumowanie
rabat

Tego kodu rabatowego nie można używać w przypadku innych promocji lub rabatów.

łącznie
Oblicz podatki i fracht przy kasie
Darmowa dostawa wszystkich zamówień!
PLN
W koszyku zakupowymPrzykładowy artykuł
Koszyk podsumowy
Przeglądaj koszyk
PLN
Baza pod makijaż Acne Fighting Putty Universal Sheer
Baza pod makijaż Acne Fighting Putty Universal Sheer
Baza pod makijaż Acne Fighting Putty Universal Sheer
Baza pod makijaż Acne Fighting Putty Universal Sheer
Baza pod makijaż Acne Fighting Putty Universal Sheer
Baza pod makijaż Acne Fighting Putty Universal Sheer
Baza pod makijaż Acne Fighting Putty Universal Sheer
Baza pod makijaż Acne Fighting Putty Universal Sheer
Baza pod makijaż Acne Fighting Putty Universal Sheer
Baza pod makijaż Acne Fighting Putty Universal Sheer

Baza pod makijaż Acne Fighting Putty Universal Sheer 7739950

PLN zł30.17 PLN zł60.33

Podsumowanie kolejności

Baza pod makijaż Acne Fighting Putty Universal Sheer
30.17
Jest kod rabatowy?
Zastosowany przez Ciebie kod rabatowy zostanie przechowywany na Twoim koncie

Podsumowanie
Ładunek obliczany jest przy rozliczeniu

być może

Metoda zakupu

Baza pod makijaż ze składnikami zwalczającymi przyszłe niedoskonałości, jednocześnie wygładzając skórę, zapewniając nieskazitelną, równomierną cerę.

  • Z 1,8% kwasem salicylowym, który zapobiega powstawaniu przyszłych niedoskonałości.
  • Unikalna, kremowa formuła wygładza pory i niedoskonałości, zapewniając nieskazitelną cerę.
  • Przejrzysta po aplikacji, zapewniając naturalne wykończenie.
  • Przygotowuje skórę pod makijaż, który utrzymuje się przez cały dzień.
  • Odpowiednia dla cery skłonnej do niedoskonałości, tłustej i mieszanej.

Przekształć swoją skórę w nieskazitelne płótno (z makijażem lub bez!) i pożegnaj się z niedoskonałościami. Ta baza pod makijaż, która udoskonala skórę, została opracowana na bazie takich składników, jak kwas salicylowy, cynk i kaolin, aby usuwać zanieczyszczenia, widocznie minimalizować pory, łagodzić podrażnienia i zapobiegać powstawaniu wyprysków. Unikalna, aksamitna formuła szpachli wygładza niedoskonałości, utrwala makijaż i zapewnia nieskazitelne, naturalne wykończenie przez cały dzień.

Informacje kontaktowe

elf Beauty Oakland, CA 94607 www.elfcosmetics.com

;

Kwas salicylowy: 1,8%, woda (Aqua), dimetikon, glikol propylenowy, gliceryna, cerezyna, parafina, uwodorniony poliizobuten, usieciowany kopolimer HDI/trimetyloloheksylolaktonu, trimetylosiloksysilikat, polimetylosilseskwioksan, trometamina, laurylowy PEG-10 tris(trimetylosiloksy)silyloetylodimetikon, chlorek sodu, usieciowany kopolimer dimetikonu/PEG-10/15, usieciowany kopolimer dimetikonu, cynk PCA, kaolin, krzemionka, Wosk z otrębów ryżowych Oryza Sativa, trietoksykaprylylosilan, EDTA disodowa, etyloheksylogliceryna, kaprylyloglikol, fenoksyetanol, może zawierać: dwutlenek tytanu (Ci 77891), tlenek chromu (Ci 77288), żółty tlenek żelaza (Ci 77492)

    Zobacz wszystkie szczegóły
    Zaloguj się
    Jeśli nie masz konta, kliknij Utwórz kontoZostań członkiem
    Zapomniałeś hasła?